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聚乙烯醇系薄膜、偏光膜的制作方法

文檔序號(hào):42431704發(fā)布日期:2025-07-11 19:31閱讀:894來源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及聚乙烯醇系薄膜,更詳細(xì)地涉及:制造偏光膜時(shí)雜質(zhì)向水中的溶出少、制造偏光板時(shí)化學(xué)溶液槽的污染被抑制、能生產(chǎn)率良好地得到偏光膜的聚乙烯醇系薄膜。


背景技術(shù):

1、近年來,液晶顯示裝置的發(fā)展活躍,被廣泛用于智能手機(jī)、平板電腦、個(gè)人電腦、液晶電視、投影機(jī)、車載面板等。

2、上述液晶顯示裝置中使用有偏光膜,作為偏光膜,主要使用了使碘吸附取向于聚乙烯醇系薄膜而成者。近年來,隨著屏幕的高精細(xì)化、高亮度化、大型化、薄型化,需要偏振性能比現(xiàn)有品更優(yōu)異、無顏色不均、且寬幅長(zhǎng)條的偏光膜。

3、通常,偏光膜如下制造:將作為坯料的聚乙烯醇系薄膜從輥卷出,邊沿長(zhǎng)度方向(md方向)輸送,邊在水(包含熱水)中進(jìn)行溶脹后,經(jīng)過基于碘的染色、用于使碘取向的拉伸、用于固定取向狀態(tài)的硼酸交聯(lián)等工序而制造。這些工序中產(chǎn)生的不良情況會(huì)使偏光膜的生產(chǎn)率大幅降低。例如,溶脹工序中,如果雜質(zhì)從聚乙烯醇系薄膜溶出而污染溶脹槽,則污染會(huì)擴(kuò)散至后續(xù)工序整體中。染色工序、硼酸交聯(lián)工序中,如果雜質(zhì)從聚乙烯醇系薄膜溶出,則不僅得到的偏光膜的偏振性能降低,而且各工序中使用的化學(xué)溶液的過濾、交換需要巨大的精力。作為上述雜質(zhì),可以舉出存在于聚乙烯醇系薄膜中的低分子量的聚乙烯醇系樹脂(包含低聚物),特別是,分子量5萬以下的低分子量體容易溶出至水中,另外,有容易形成使偏光度降低的低分子量的碘絡(luò)合物的傾向。

4、進(jìn)而,溶出的低分子量的聚乙烯醇系樹脂與偏光膜制造工序中的碘、硼酸形成締合體而可能成為異物。該異物附著于加工中的偏光膜表面,從而成為最終得到的偏光膜的異物缺陷。

5、另一方面,作為坯料的聚乙烯醇系薄膜通常如下制造:使成為原料的聚乙烯醇系樹脂溶解于水中,由上述水溶液(制膜原液)通過連續(xù)澆鑄法而制造。具體而言,如下制造:將聚乙烯醇系樹脂的水溶液排出并流延至澆鑄鼓、環(huán)帶等澆鑄模來進(jìn)行制膜,將得到的薄膜從澆鑄模上剝離后,邊沿長(zhǎng)度方向(md方向)輸送,邊進(jìn)行干燥、熱處理,從而制造,但成為原料的聚乙烯醇系樹脂的種類的選擇、制造工序中的制造條件的調(diào)整如果不適宜,則有制造偏光膜時(shí)溶出的聚乙烯醇系樹脂增加的傾向。

6、作為改良上述課題的方法,例如提出了如下方法等:通過使用粘均聚合度(p)為4000~8000和皂化度為99.50~99.97摩爾%、且1,2-二醇鍵單元的含量處于特定的范圍、形成水溶液時(shí)示出特定的增稠特性和吸光度的乙烯醇系聚合物,從而得到減少了溶出量的聚乙烯醇系薄膜的方法(參照專利文獻(xiàn)1);著眼于制造聚乙烯醇系薄膜時(shí)的干燥工序中的熱輥溫度條件,得到減少了溶出量的聚乙烯醇系薄膜的方法(參照專利文獻(xiàn)2)。

7、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

8、專利文獻(xiàn)

9、專利文獻(xiàn)1:日本特開2009-221462號(hào)公報(bào)

10、專利文獻(xiàn)2:wo2017/204271號(hào)公報(bào)


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、然而,上述專利文獻(xiàn)1的公開技術(shù)中,使10cm見方的薄膜在50℃下浸漬于1升的水中4小時(shí)時(shí)的聚乙烯醇系樹脂的溶出液濃度為10~50ppm,但換算成每m2薄膜時(shí),1000~5000ppm/m2的聚乙烯醇系樹脂會(huì)溶出,為了應(yīng)對(duì)近年來的偏光膜的需求以高的生產(chǎn)效率制造偏光膜,需要樹脂溶出量的進(jìn)一步的減少。

3、另外,上述專利文獻(xiàn)2的公開技術(shù)中,浸漬于50℃的水中1分鐘時(shí)的聚乙烯醇系樹脂的溶出量為900ppm/m2以下,但為了應(yīng)對(duì)近年來的偏光膜的高透射率、高偏光度化而以屬于聚乙烯醇系樹脂更容易溶出的條件的高拉伸倍率制造偏光膜,需要樹脂溶出量的進(jìn)一步的減少。

4、因此,本發(fā)明中,在這樣的背景下,提供:制造偏光膜時(shí)聚乙烯醇系樹脂向水中的溶出量少、且制造偏光膜時(shí)的化學(xué)溶液槽的污染被抑制、能生產(chǎn)率良好地得到異物缺陷少的偏光膜的聚乙烯醇系薄膜。

5、用于解決問題的方案

6、因而,本發(fā)明人等著眼于聚乙烯醇系薄膜的表層1μm之間的雙折射大小變化的比例,發(fā)現(xiàn):將其絕對(duì)值除以膜厚而得到的值在薄膜兩個(gè)表面均為特定范圍的情況下,能夠解決上述課題,且能以高的生產(chǎn)率制造異物缺陷少的偏光膜。

7、即,本發(fā)明的主旨在于以下的[1]~[4]。

8、[1]一種聚乙烯醇系薄膜,其中,對(duì)于聚乙烯醇系薄膜的兩個(gè)表面,從各前述薄膜表面的表層至深度1μm的區(qū)間滿足下述式(1)。

9、|s|/f≥5×10-7…(1)

10、(此處,|s|是從表層至深度1μm之間的雙折射大小變化的比例(斜率)的絕對(duì)值,f為薄膜膜厚(單位μm)。)

11、[2]根據(jù)[1]所述的聚乙烯醇系薄膜,其中,對(duì)于前述聚乙烯醇系薄膜的至少一個(gè)薄膜表面,從前述薄膜表面的表層至深度1μm的區(qū)間滿足下述式(2)。

12、|s|/f≥9×10-7…(2)

13、(此處,|s|是從表層至深度1μm之間的雙折射大小變化的比例(斜率)的絕對(duì)值,f為薄膜膜厚(單位μm)。)

14、[3]根據(jù)[1]或[2]所述的聚乙烯醇系薄膜,其中,薄膜膜厚(f)為10~60μm。

15、[4]一種偏光膜,其使用了[1]~[3]中任一項(xiàng)所述的聚乙烯醇系薄膜。

16、發(fā)明的效果

17、本發(fā)明的聚乙烯醇系薄膜著眼于聚乙烯醇系薄膜的表層1μm之間的雙折射大小變化的比例,將其絕對(duì)值除以膜厚而得到的值在薄膜兩個(gè)表面均設(shè)為特定范圍,由此薄膜表面部分的晶體充分生長(zhǎng),因此,能夠減少制造偏光膜時(shí)聚乙烯醇系樹脂從薄膜表面向化學(xué)溶液的溶出量,制造偏光膜時(shí)的對(duì)化學(xué)溶液槽的污染被抑制,因此,作為能夠以高的生產(chǎn)率制造異物缺陷少的偏光膜的坯料薄膜是有用的。



技術(shù)特征:

1.一種聚乙烯醇系薄膜,其中,對(duì)于聚乙烯醇系薄膜的兩個(gè)表面,從各所述薄膜表面的表層至深度1μm的區(qū)間滿足下述式(1),

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的聚乙烯醇系薄膜,其中,對(duì)于所述聚乙烯醇系薄膜的至少一個(gè)薄膜表面,從所述薄膜表面的表層至深度1μm的區(qū)間滿足下述式(2),

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的聚乙烯醇系薄膜,其中,薄膜膜厚f為10~60μm。

4.一種偏光膜,其使用了權(quán)利要求1或2所述的聚乙烯醇系薄膜。


技術(shù)總結(jié)
作為制造偏光膜時(shí)聚乙烯醇系樹脂向水中的溶出量少、且制造偏光膜時(shí)的化學(xué)溶液槽的污染被抑制、能生產(chǎn)率良好地得到異物缺陷少的偏光膜的聚乙烯醇系薄膜,提供下述。一種聚乙烯醇系薄膜,對(duì)于聚乙烯醇系薄膜的兩個(gè)表面,從各前述薄膜表面的表層至深度1μm的區(qū)間滿足下述式(1)。|S|/F≥5×10?7…(1)(此處,|S|是從表層至深度1μm之間的雙折射大小變化的比例(斜率)的絕對(duì)值,F(xiàn)為薄膜膜厚(μm)。)。

技術(shù)研發(fā)人員:大冢玲美奈,飯沼角王
受保護(hù)的技術(shù)使用者:三菱化學(xué)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/7/10
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