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光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝的制作方法

文檔序號(hào):42587473發(fā)布日期:2025-07-29 17:40閱讀:6來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明屬于光模塊制造,具體涉及一種光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝。


背景技術(shù):

1、光模塊作為高速光通信的核心組件,其電鍍層的性能直接影響信號(hào)傳輸效率和可靠性。近年來(lái),稀土元素的摻雜被引入電鍍工藝,通過(guò)細(xì)化晶粒、提升耐蝕性和導(dǎo)熱性來(lái)滿(mǎn)足光模塊的高要求。然而,稀土電鍍面臨嚴(yán)峻的氫氣泡問(wèn)題:由于稀土離子的還原電位極負(fù)遠(yuǎn)低于常規(guī)金屬,導(dǎo)致析氫反應(yīng)占據(jù)主導(dǎo),電流效率不足30%。氫氣泡在陰極表面附著形成遮蔽效應(yīng),造成鍍層孔隙、麻點(diǎn)甚至氫脆,同時(shí)稀土沉積速率大幅降低?,F(xiàn)有技術(shù)如脈沖電鍍、有機(jī)添加劑或機(jī)械攪拌雖能部分緩解問(wèn)題,但脈沖電鍍對(duì)稀土電流效率提升有限,添加劑可能干擾稀土絡(luò)合。更復(fù)雜的是,稀土鹽水解會(huì)局部酸化電解液,進(jìn)一步加劇析氫反應(yīng)。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,可以解決上述技術(shù)問(wèn)題。

2、為達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

3、本發(fā)明公開(kāi)的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,包括以下步驟:

4、前處理:對(duì)光模塊基體依次進(jìn)行除油、酸洗和活化處理,形成清潔活性表面;

5、電解液配置:以氨基磺酸鎳或氰化金鉀為主鹽,添加0.5-5g/l的稀土鹽,所述稀土鹽為氯化鈰、硝酸鑭或硫酸釔中的至少一種,并加入5-15g/l的檸檬酸鈉絡(luò)合劑和十二烷基硫酸鈉表面活性劑;

6、電鍍沉積:在ph3.5-4.5、溫度45-55℃條件下,采用密度為2-5a/dm2的脈沖電流進(jìn)行電鍍,脈沖頻率100-500hz,占空比30-50%;

7、除氫:在電鍍沉積進(jìn)行時(shí),通過(guò)除氫裝置將光模塊外側(cè)的氫氣泡進(jìn)行去除,防止氫氣泡在陰極表面附著,確保稀土與金屬共沉積的均勻性;

8、后處理:電鍍完成后對(duì)光模塊進(jìn)行去離子水清洗和真空干燥。

9、進(jìn)一步,除氫裝置包括轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)組件、安裝在轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)組件上的徑向滑架、同時(shí)與徑向滑架轉(zhuǎn)動(dòng)配合的第一壓輥和第二壓輥、驅(qū)動(dòng)第一壓輥轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置,在轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)組件上安裝有至少一組徑向滑架,第一壓輥和第二壓輥豎直平行間隔布置在光模塊的一側(cè),第一壓輥的表面設(shè)置有若干刺針,刺針呈螺旋排布在第一壓輥的外側(cè)表面,第二壓輥上開(kāi)設(shè)有與刺針對(duì)應(yīng)的螺旋槽;在電鍍沉積進(jìn)行時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)第一壓輥轉(zhuǎn)動(dòng),通過(guò)刺針與螺旋槽的配合將氫氣泡刺破,各組徑向滑架與光模塊之間具有不同的徑向距離。

10、進(jìn)一步,第一壓輥同軸連接有第一齒輪,第二壓輥同軸連接有第二齒輪,第一齒輪和第二齒輪嚙合從而帶動(dòng)第二壓輥轉(zhuǎn)動(dòng);轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置包括第三齒輪、第四齒輪和第一電機(jī),第三齒輪同軸連接在第一壓輥遠(yuǎn)離第一齒輪所在一端,第三齒輪與第四齒輪嚙合,第四齒輪連接至第一電機(jī)的輸出軸,第一電機(jī)固定在徑向滑架上。

11、進(jìn)一步,所述轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)組件包括上環(huán)、底環(huán)、環(huán)座、第五齒輪、第二電機(jī)、導(dǎo)桿、升降裝置,環(huán)座上固定有第二電機(jī),第二電機(jī)的輸出軸連接至第五齒輪,第五齒輪與底環(huán)外側(cè)的齒圈嚙合,底環(huán)同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于環(huán)座內(nèi),底環(huán)的上端固定連接有導(dǎo)桿,導(dǎo)桿滑動(dòng)地穿過(guò)上環(huán)開(kāi)設(shè)的導(dǎo)孔內(nèi),底環(huán)上同時(shí)安裝有驅(qū)動(dòng)上環(huán)上下位移的升降裝置。

12、進(jìn)一步,上環(huán)的上表面開(kāi)設(shè)有徑向的滑槽,徑向滑架滑動(dòng)安裝于滑槽,徑向滑架的側(cè)面固定有齒條,齒條與第六齒輪嚙合,第六齒輪連接至第三電機(jī)的輸出端,第三電機(jī)固定于上環(huán)。

13、進(jìn)一步,上環(huán)的中心同軸連接有中心筒,所述中心筒設(shè)置在光模塊的外側(cè),所述中心筒的筒壁上開(kāi)設(shè)有若干通孔。

14、進(jìn)一步,中心筒的底部同軸連接有齒環(huán),齒環(huán)嚙合有第七齒輪,第七齒輪通過(guò)偏心軸同軸連接有第八齒輪,第八齒輪嚙合有中心齒輪,中心齒輪連接至光模塊,偏心軸通過(guò)齒輪架連接有空心軸,空心軸轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于中心齒輪的中心。

15、進(jìn)一步,所述中心齒輪上安裝有第一超聲波換能器,所述第一超聲波換能器為光模塊和中心筒提供低頻的超聲波振動(dòng);所述徑向滑架上安裝有第二超聲波換能器,所述第二超聲波換能器為徑向滑架提供高頻的超聲波振動(dòng)。

16、進(jìn)一步,第二壓輥轉(zhuǎn)動(dòng)連接有轉(zhuǎn)動(dòng)座,轉(zhuǎn)動(dòng)座與徑向滑架在徑向滑動(dòng)配合,通過(guò)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)動(dòng)座在徑向滑座上的位置能夠?qū)⒌谝粔狠伜偷诙狠佒g的間距進(jìn)行調(diào)節(jié),轉(zhuǎn)動(dòng)座與徑向滑架之間通過(guò)鎖緊件固定。

17、本發(fā)明的有益效果在于:

18、本發(fā)明公開(kāi)的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,在電鍍沉積進(jìn)行時(shí),通過(guò)除氫裝置將光模塊外側(cè)的氫氣泡進(jìn)行去除,防止氫氣泡在陰極表面附著,確保稀土與金屬共沉積的均勻性;通過(guò)除氫裝置直接干預(yù)陰極表面的氫氣泡附著問(wèn)題,減少了傳統(tǒng)工藝中的因氣泡遮蔽導(dǎo)致的鍍層孔隙或成分偏析。經(jīng)測(cè)試,通過(guò)該發(fā)明工藝得到的光模塊表面晶粒尺寸可控制在50-100nm,光模塊表面的耐高溫性能提高。

19、本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特征將在隨后的說(shuō)明書(shū)中進(jìn)行闡述,并且在某種程度上對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員而言是顯而易見(jiàn)的,或者本領(lǐng)域技術(shù)人員可以從本發(fā)明的實(shí)踐中得到教導(dǎo)。本發(fā)明的目標(biāo)和其他優(yōu)點(diǎn)可以通過(guò)下面的說(shuō)明書(shū)來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得。



技術(shù)特征:

1.光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,包括以下步驟:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,除氫裝置包括轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)組件、安裝在轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)組件上的徑向滑架、同時(shí)與徑向滑架轉(zhuǎn)動(dòng)配合的第一壓輥和第二壓輥、驅(qū)動(dòng)第一壓輥轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置,在轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)組件上安裝有至少一組徑向滑架,第一壓輥和第二壓輥豎直平行間隔布置在光模塊的一側(cè),第一壓輥的表面設(shè)置有若干刺針,刺針呈螺旋排布在第一壓輥的外側(cè)表面,第二壓輥上開(kāi)設(shè)有與刺針對(duì)應(yīng)的螺旋槽;在電鍍沉積進(jìn)行時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)第一壓輥轉(zhuǎn)動(dòng),通過(guò)刺針與螺旋槽的配合將氫氣泡刺破,各組徑向滑架與光模塊之間具有不同的徑向距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,第一壓輥同軸連接有第一齒輪,第二壓輥同軸連接有第二齒輪,第一齒輪和第二齒輪嚙合從而帶動(dòng)第二壓輥轉(zhuǎn)動(dòng);轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置包括第三齒輪、第四齒輪和第一電機(jī),第三齒輪同軸連接在第一壓輥遠(yuǎn)離第一齒輪所在一端,第三齒輪與第四齒輪嚙合,第四齒輪連接至第一電機(jī)的輸出軸,第一電機(jī)固定在徑向滑架上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,所述轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)組件包括上環(huán)、底環(huán)、環(huán)座、第五齒輪、第二電機(jī)、導(dǎo)桿、升降裝置,環(huán)座上固定有第二電機(jī),第二電機(jī)的輸出軸連接至第五齒輪,第五齒輪與底環(huán)外側(cè)的齒圈嚙合,底環(huán)同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于環(huán)座內(nèi),底環(huán)的上端固定連接有導(dǎo)桿,導(dǎo)桿滑動(dòng)地穿過(guò)上環(huán)開(kāi)設(shè)的導(dǎo)孔內(nèi),底環(huán)上同時(shí)安裝有驅(qū)動(dòng)上環(huán)上下位移的升降裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,上環(huán)的上表面開(kāi)設(shè)有徑向的滑槽,徑向滑架滑動(dòng)安裝于滑槽,徑向滑架的側(cè)面固定有齒條,齒條與第六齒輪嚙合,第六齒輪連接至第三電機(jī)的輸出端,第三電機(jī)固定于上環(huán)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4-5任一項(xiàng)所述的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,上環(huán)的中心同軸連接有中心筒,所述中心筒設(shè)置在光模塊的外側(cè),所述中心筒的筒壁上開(kāi)設(shè)有若干通孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,中心筒的底部同軸連接有齒環(huán),齒環(huán)嚙合有第七齒輪,第七齒輪通過(guò)偏心軸同軸連接有第八齒輪,第八齒輪嚙合有中心齒輪,中心齒輪連接至光模塊,偏心軸通過(guò)齒輪架連接有空心軸,空心軸轉(zhuǎn)動(dòng)安裝于中心齒輪的中心。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,所述中心齒輪上安裝有第一超聲波換能器,所述第一超聲波換能器為光模塊和中心筒提供低頻的超聲波振動(dòng);所述徑向滑架上安裝有第二超聲波換能器,所述第二超聲波換能器為徑向滑架提供高頻的超聲波振動(dòng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,其特征在于,第二壓輥轉(zhuǎn)動(dòng)連接有轉(zhuǎn)動(dòng)座,轉(zhuǎn)動(dòng)座與徑向滑架在徑向滑動(dòng)配合,通過(guò)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)動(dòng)座在徑向滑座上的位置能夠?qū)⒌谝粔狠伜偷诙狠佒g的間距進(jìn)行調(diào)節(jié),轉(zhuǎn)動(dòng)座與徑向滑架之間通過(guò)鎖緊件固定。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種光模塊電鍍層的稀土元素?fù)诫s改性工藝,屬于光模塊制造技術(shù)領(lǐng)域,包括以下步驟:對(duì)光模塊基體依次進(jìn)行除油、酸洗和活化處理,形成清潔活性表面;以氨基磺酸鎳或氰化金鉀為主鹽,添加0.5?5g/L的稀土鹽,所述稀土鹽為氯化鈰、硝酸鑭或硫酸釔中的至少一種,并加入5?15g/L的檸檬酸鈉絡(luò)合劑和十二烷基硫酸鈉表面活性劑;在pH3.5?4.5、溫度45?55℃條件下,采用密度為2?5A/dm<supgt;2</supgt;的脈沖電流進(jìn)行電鍍,脈沖頻率100?500Hz,占空比30?50%;在電鍍沉積進(jìn)行時(shí),通過(guò)除氫裝置將光模塊外側(cè)的氫氣泡進(jìn)行去除,防止氫氣泡在陰極表面附著,確保稀土與金屬共沉積的均勻性;電鍍完成后對(duì)光模塊進(jìn)行去離子水清洗和真空干燥。通過(guò)本發(fā)明工藝得到的光模塊表面的耐高溫性能提高。

技術(shù)研發(fā)人員:范裕民,陳濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者:深圳市協(xié)力達(dá)精密科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/7/28
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