本申請涉及平板光學(xué)顯示，具體涉及一種高透過率防窺膜及其制備方法。
背景技術(shù)：
1、在當(dāng)今數(shù)字化時代，電子設(shè)備已成為人們生活和工作中不可或缺的工具。從日常使用的手機、平板電腦，到辦公用的筆記本電腦和顯示器，人們在這些設(shè)備上處理著大量的敏感信息，如個人隱私、商業(yè)機密等。此外，隨著無人機低空經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)的崛起，平板發(fā)光顯示產(chǎn)品在無人機領(lǐng)航標(biāo)識產(chǎn)品發(fā)明也開展了應(yīng)用，在平板發(fā)光顯示設(shè)備上，增加防窺層可以避免陽光直曬導(dǎo)致的圖案“眩光”等問題，并可以對顯示內(nèi)容進行“加密”保護，即，防窺膜在平板光學(xué)顯示設(shè)備上具有重要應(yīng)用價值。
2、早期的防窺膜技術(shù)較為簡單，多采用深色貼膜或百葉窗式的物理遮擋結(jié)構(gòu)。這類防窺膜雖然能在一定程度上實現(xiàn)防窺功能，但存在諸多缺陷。深色貼膜會大幅降低屏幕的透光率，使屏幕顯示變得昏暗，即使在光線充足的環(huán)境下，用戶也難以看清屏幕內(nèi)容，在光線較暗的環(huán)境中，問題更為嚴(yán)重，嚴(yán)重影響使用體驗。百葉窗式結(jié)構(gòu)則容易產(chǎn)生視覺死角，且對光線的控制不夠精準(zhǔn)，大量光線被不透光區(qū)域吸收或阻擋，導(dǎo)致整體透光率較低，屏幕顯示亮度不足且顏色偏灰黑，嚴(yán)重影響用戶的視覺體驗和使用舒適度。目前市面上的防窺膜普遍存在透光效率不理想、防窺角度受限等問題。
3、隨著科技的不斷進步，新型防窺膜技術(shù)不斷涌現(xiàn)。例如，基于偏光原理的防窺膜，通過控制光線的偏振方向來實現(xiàn)防窺，但該技術(shù)對偏光材料的要求較高，成本昂貴，且在不同角度下的防窺效果差異較大。還有利用微結(jié)構(gòu)光學(xué)技術(shù)制作的防窺膜，雖然在一定程度上提高了防窺性能和透光率，但在復(fù)雜光線環(huán)境下，仍無法很好地平衡防窺與透光的關(guān)系，難以滿足用戶日益增長的高品質(zhì)需求。例如，專利號cn118550008a提出的防窺膜，通過優(yōu)化防窺層和減反防眩層的設(shè)計雖在一定程度上提高了透光率，但整體透光率提升幅度有限；專利號cn203752629u的防窺膜增加了可視區(qū)域內(nèi)光的透過率，但仍未從根本上解決防窺膜透光率低的問題。此外，如專利號cn118859397a和專利號cn221977143u等提出的防窺膜的制備工藝復(fù)雜，成本高昂，不利于大規(guī)模生產(chǎn)和推廣應(yīng)用。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為了解決上述技術(shù)問題，本申請?zhí)峁┝艘环N高透過率防窺膜及其制備方法，包括從下至上依次設(shè)置的基底層、透光層、防窺層和增透膜層，其中，所述透光層包括透光基層，透光基層上周期性間隔布設(shè)有多個呈等腰梯形的第一凸起，每一個第一凸起的上底面均小于下底面，防窺層包括防窺基層，防窺基層上周期性間隔布設(shè)有多個呈等腰梯形的第二凸起，每一個第二凸起的上底面均大于下底面，且每一個第二凸起均位于相鄰兩個第一凸起之間，相鄰兩個第一凸起之間間距與第二凸起下底面相匹配，第一凸起與第二凸起連接的側(cè)面還設(shè)置有反射層。
2、在一些實施方式中，所述基底層的厚度為01.-0.5mm。為了保證基底層為整個防窺膜提供支撐，根據(jù)基底層制作材料的選擇，其制作厚度的選擇為0.1-0.5mm之間。
3、在一些實施方式中，所述透光基層與基底層平行設(shè)置，且透光基層的厚度為10-20μm。透光基層通過光刻、蝕刻、壓印等微納加工工藝平行設(shè)置在基底層上，透光基層的厚度選擇為10-20μm。
4、在一些實施方式中，所述防窺基層為黑色油墨或遮光聚合物，其厚度為1-3μm。防窺基層應(yīng)當(dāng)與基底層平行設(shè)置，且防窺基層的材質(zhì)采用具有遮光性能的材料，如黑色油墨或遮光聚合物，其厚度選擇為1-3μm，具體厚度的選擇只要能夠保證其遮光性能即可。
5、在一些實施方式中，所述反射層為高反射率的金屬材料或有機材料，其厚度為1-2μm。反射層可選擇鋁、銀、二氧化鈦等具有高反射率的金屬材料，也可以選擇pbdb-t-2f、pdcbt、ptb7、mdmo-ppv等有機分子材料，用來增加光線的反射，減少光線在第一凸起內(nèi)的散射或吸收，進而提高防窺膜的透光率，反射層的厚度一般選擇為1-2μm。
6、在一些實施方式中，所述增透膜層由多種不同厚度及不同折射率的結(jié)構(gòu)單層組成，其厚度為50-200nm。通過控制各結(jié)構(gòu)單層的厚度和折射率，利用光的干涉原理，減少光線在膜表面的反射，增加光線的透過率，一般來說，各結(jié)構(gòu)單層的厚度在幾十納米到幾百納米之間，折射率根據(jù)具體設(shè)計要求選擇不同的光學(xué)材料來實現(xiàn)，根據(jù)具體涉及要求選擇不同結(jié)構(gòu)單層的厚度和折射率屬于現(xiàn)有技術(shù)，此處不再贅述。
7、在一些實施方式中，所述第一凸起的高度為90-120μm，上底寬度為20-120μm，下底寬度為30-130μm；所述第二凸起的高度為90-120μm，上底寬度為10-15μm，下底寬度為5-10μm。所述第一凸起呈等腰三角形，第二凸起呈倒置的等腰三角形，第一凸起周期性間隔排列在透光基層上，第二凸起填充式設(shè)置在相鄰兩個第一凸起之間，相鄰兩個第一凸起之間的間距與第二凸起的下底相匹配，第一凸起上底與第二凸起的上底處于同一水平面上。
8、本申請還提供了一種高透過率防窺膜的制備方法，所述方法用于制備上述所述的高透過率防窺膜，具體包括以下步驟：
9、s100、基底層制備：選擇材料，通過流延、拉伸或滾軸壓印工藝制備具有預(yù)設(shè)厚度的基底層；
10、s200、透光層制備：采用光刻、蝕刻或滾軸壓印技術(shù)在基底層上制備透光基層，并在透光基層上制作周期性間隔分布的第一凸起；
11、s300、反射層制備：通過物理氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法或滾軸壓印法在相鄰兩個第一凸起的內(nèi)側(cè)側(cè)壁沉積反射層；
12、s400、防窺層制備：通過印刷或涂覆工藝將具有遮光性能的材料填充到周期性間隔分布的第一凸起內(nèi)，形成第二凸起，再通過旋涂或噴涂的方法在第二凸起和第一凸起組成的結(jié)構(gòu)層上方制備防窺基層；
13、s500、增透膜層制備：采用電子束蒸發(fā)法、磁控濺射法或滾軸壓印法在防窺基層上依次沉積不同厚度和不同折射率的結(jié)構(gòu)單層，形成增透膜層。
14、與現(xiàn)有技術(shù)比較，本申請所提供的高透過率防窺膜及其制備方法，該高透過率防窺膜將防窺層和透光層均設(shè)置為兩部分，并在第一凸起與第二凸起相配合區(qū)域設(shè)置反射層，有效減少了光線的散射和吸收；同時在最上層設(shè)置增透膜層，該增透膜層利用光的干涉原理減少了光線在膜表面的反射，使得所制備得到的防窺膜具有較高的透光率，相比現(xiàn)有防窺膜，透光率可提高20％-30％；而且，倒置等腰三角形設(shè)置的第二凸起有效阻擋了側(cè)面光線，確保只有正面觀看時才能看到，從而保護了用戶的隱私。本申請制備方法采用微納加工和薄膜沉積工藝，易于實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)，進而降低了生產(chǎn)成本。因此，本申請在電子設(shè)備隱私保護領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用前景。
1.一種高透過率防窺膜，其特征在于，包括從下至上依次設(shè)置的基底層(20)、透光層(30)、防窺層(50)和增透膜層(60)，其中，所述透光層(30)包括透光基層(31)，透光基層(31)上周期性間隔布設(shè)有多個呈等腰梯形的第一凸起(32)，每一個第一凸起(32)的上底面均小于下底面，防窺層(50)包括防窺基層(51)，防窺基層(51)上周期性間隔布設(shè)有多個呈等腰梯形的第二凸起(52)，每一個第二凸起(52)的上底面均大于下底面，且每一個第二凸起(52)均位于相鄰兩個第一凸起(32)之間，相鄰兩個第一凸起(32)之間間距與第二凸起(52)下底面相匹配，第一凸起(32)與第二凸起(52)連接的側(cè)面還設(shè)置有反射層(40)。
2.如權(quán)利要求1所述的高透過率防窺膜，其特征在于，所述基底層(20)的厚度為01.-0.5mm。
3.如權(quán)利要求2所述的高透過率防窺膜，其特征在于，所述透光基層(31)與基底層(20)平行設(shè)置，且透光基層(31)的厚度為10-20μm。
4.如權(quán)利要求3所述的高透過率防窺膜，其特征在于，所述防窺基層(51)為黑色油墨或遮光聚合物，其厚度為1-3μm。
5.如權(quán)利要求4所述的高透過率防窺膜，其特征在于，所述反射層(40)為高反射率的金屬材料或有機材料，其厚度為1-2μm。
6.如權(quán)利要求5所述的高透過率防窺膜，其特征在于，所述增透膜層(60)由多種不同厚度及不同折射率的結(jié)構(gòu)單層組成，其厚度為50-200nm。
7.如權(quán)利要求6所述的高透過率防窺膜，其特征在于，所述第一凸起(32)的高度為90-120μm，上底寬度為20-120μm，下底寬度為30-130μm。
8.如權(quán)利要求7所述的高透過率防窺膜，其特征在于，所述第二凸起的高度為90-120μm，上底寬度為10-15μm，下底寬度為5-10μm。
9.一種高透過率防窺膜的制備方法，其特征在于，所述方法用于制備權(quán)利要求1-8任一項所述的高透過率防窺膜，具體包括以下步驟：