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一種新型光學(xué)復(fù)合膜的制作方法

文檔序號(hào):42592014發(fā)布日期:2025-07-29 17:44閱讀:11來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及電子顯示裝置,具體為一種新型光學(xué)復(fù)合膜。


背景技術(shù):

1、有研究表明,人們?cè)谟^看圓偏振屏幕相比較于線偏振屏幕視覺疲勞會(huì)減輕。從偏振方向來(lái)看,線偏振光是指光的電矢量在垂直于傳播方向的平面內(nèi)沿著一個(gè)固定方向振動(dòng)的光。圓偏振光的電場(chǎng)矢量在傳播方向上呈圓形旋轉(zhuǎn),相較于線偏振光更加接近自然光,這可能對(duì)眼睛的刺激更加均勻,從而減少視覺疲勞。隨著近些年來(lái),人們護(hù)眼意識(shí)的提高,對(duì)于具有圓偏振特性的光學(xué)膜研究逐漸增多。

2、目前市場(chǎng)上圓偏振光顯示的技術(shù)采用是qwp方案,即將液晶或具有雙折射性質(zhì)的晶體材料制備成1/4波片層改變光的路徑將線偏振光轉(zhuǎn)換為圓偏振光。但該方案由于制備波片層材料的物理特性限制,造成顯示屏圓偏振光轉(zhuǎn)化率低的問題。

3、本發(fā)明提出一種新型光學(xué)復(fù)合膜,通過制程更簡(jiǎn)單且良率更高的方法制備能達(dá)到更高圓偏光轉(zhuǎn)換效率的光學(xué)復(fù)合膜,新型光學(xué)復(fù)合膜采用單向拉伸等工藝制備軸向折射率不同的pet薄膜,先對(duì)薄膜表面進(jìn)行電暈處理改善表面結(jié)合力,再在pet薄膜表面結(jié)合一層具有雙折射粒子涂層,通過增大相位延遲量,獲得更高的圓偏光轉(zhuǎn)換效率。最后涂覆膠黏劑過程中安裝真空泵代替以前的擠壓式,減少溢膠現(xiàn)象造成的良率損失。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、基于此,本發(fā)明的目的是提供一種新型光學(xué)復(fù)合膜,通過制程更簡(jiǎn)單且良率更高的方法得到更高的圓偏光轉(zhuǎn)換效率,以解決上述背景中提出的技術(shù)問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種新型光學(xué)復(fù)合膜,由三層構(gòu)成,包括中間基材jks-cp-1,基材上下層兩種不同類型的膠黏劑jks-a和jks-b。

3、作為優(yōu)選技術(shù)方案,jks-cp-1是高分子材料經(jīng)過單向拉伸等制程工藝制備的具有雙折射率的pet薄膜,再對(duì)表面進(jìn)行電暈處理,對(duì)表面處理后薄膜直接涂覆膠黏劑或增加一層具有雙折射粒子涂層后再涂覆膠黏劑。

4、作為優(yōu)選技術(shù)方案,pet薄膜是將高分子材料經(jīng)聚合、成膜、拉伸、表面加工等制程制備成具有雙折射率的高分子有機(jī)薄膜,其中拉伸方式采用得是單向拉伸,拉伸比≥3倍,pet薄膜產(chǎn)品可見光透過率:≥85%(厚度<100μm),霧度:<1.5%,雙折射率δn:0.1–0.15。

5、作為優(yōu)選技術(shù)方案,pet薄膜兩面進(jìn)行功率30-50w·min/m2,電極間距1-2mm電暈處理,使其表面氧化,表面電暈處理后pet表面張力在48–56mn/m。

6、作為優(yōu)選技術(shù)方案,摻雜雙折射粒子的涂層,是以有機(jī)硅類涂層、聚氨酯類涂層和丙烯酸酯類涂層或它們的改性衍生物為涂層主體樹脂。摻雜的雙折射粒子包括石英粉、碳酸鈣、氫氧化鎂、云母、氫氧化鎂的一種或多種,摻雜雙折射粒子粉體粒徑在1-14μm,采用機(jī)械攪拌分散,雙折射粒子粉體的質(zhì)量分?jǐn)?shù)占總混合體的2-50%。

7、作為優(yōu)選技術(shù)方案,涂覆在基材jks-cp-1兩面的膠黏劑jks-a和jks-b為丙烯酸類或聚氨酯類一種或多種混合膠黏劑,且jks-a和jks-b具有一定折射率,折射率在1.4-1.6。

8、作為優(yōu)選技術(shù)方案,通過涂布機(jī)機(jī)械配合對(duì)準(zhǔn)或光纖對(duì)準(zhǔn)進(jìn)行下料,在真空環(huán)境下將jks-a和jks-b與基材jks-cp-1進(jìn)行貼合,uv固化能量在1500–2000mj/cm2,固化時(shí)間為5–30s。

9、綜上所述,本發(fā)明主要具有以下有益效果:

10、本發(fā)明通過設(shè)置jks-cp-1、膠黏劑jks-a和膠黏劑jks-b,且通過聚合、成膜、拉伸、表面加工等制程制備,使得新型光學(xué)復(fù)合膜可能達(dá)到更高的圓偏光轉(zhuǎn)換效率和更佳的亮度均勻性,且通過涂布機(jī)機(jī)械配合對(duì)準(zhǔn)或光纖對(duì)準(zhǔn)進(jìn)行下料,使得新型光學(xué)復(fù)合膜制程更簡(jiǎn)單且良率更高。



技術(shù)特征:

1.一種新型光學(xué)復(fù)合膜,其特征在于,包括中間基材jks-cp-1,所述中間基材jks-cp-1上層設(shè)有膠黏劑jks-a,所述中間基材jks-cp-1的下層設(shè)有膠黏劑jks-b,所述膠黏劑jks-a和膠黏劑jks-b為丙烯酸類或聚氨酯類膠黏劑一種或多種混合物,折射率為:1.4-1.6。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光學(xué)復(fù)合膜,其特征在于:所述中間基材jks-cp-1部分制備工藝為:

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光學(xué)復(fù)合膜,其特征在于:所述膠黏劑jks-a、jks-b為丙烯酸類或聚氨酯類一種或兩種混合膠黏劑。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種新型光學(xué)復(fù)合膜,其特征在于:所述雙折射粒子涂層為有機(jī)硅類涂層、聚氨酯類涂層和丙烯酸酯類一種或多種混合涂層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光學(xué)復(fù)合膜,其特征在于:所述雙折射粒子涂層包括有:石英粉、碳酸鈣、氫氧化鎂、云母、氫氧化鎂,所述雙折射粒子粉體粒徑在1-14μm,所述雙折射粒子粉體占總混合體質(zhì)量分?jǐn)?shù)的2-50%。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種新型光學(xué)復(fù)合膜,涉及電子顯示裝置技術(shù)領(lǐng)域,包括中間基材JKS?CP?1,中間基材JKS?CP?1上層設(shè)有膠黏劑JKS?A,中間基材JKS?CP?1的下層設(shè)有膠黏劑JKS?B,膠黏劑JKS?A和膠黏劑JKS?B為丙烯酸類或聚氨酯類膠黏劑一種或多種混合物,折射率為:1.4?1.6。本發(fā)明通過設(shè)置JKS?CP?1、膠黏劑JKS?A和膠黏劑JKS?B,對(duì)主要光學(xué)薄膜表面進(jìn)行涂覆雙折射粒子和電暈等微處理,使得新型光學(xué)復(fù)合膜可能達(dá)到更高的圓偏光轉(zhuǎn)換效率和更佳的亮度均勻性,且通過涂布機(jī)機(jī)械配合對(duì)準(zhǔn)或光纖對(duì)準(zhǔn)進(jìn)行下料,使得新型光學(xué)復(fù)合膜制程更簡(jiǎn)單且良率更高。

技術(shù)研發(fā)人員:王穩(wěn)強(qiáng),胡穎蘭,潘歡歡
受保護(hù)的技術(shù)使用者:安徽京科盛新材料科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/7/28
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